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一种光刻机的接近式间隙曝光工件台
  • 所有权人:中国科技大学发布时间:2019-04-03

    所属行业:地理信息状态:已审核    

  • 技术成熟度:通过小试

    省(国)别:中国

  • 技术交易方式:技术转让

    技术转让价格:面议万元

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技术详细介绍:

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在接触式光刻设备中,由于掩模和涂了胶的基片接触容易损伤掩模板,从而导致掩模板的使用寿命较短(只能使用5~25次)。并导致曝光图形累积缺陷。

另外接触的越紧密,掩膜和材料的损伤就越大。

1、接近式间隙曝光工件台系统工作时,样片不与掩模接触,可有效避免样片损伤掩模板,因而减少了曝光图形缺陷的概率。

2、接近式间隙曝光工件台系统工作时,仅用一个驱动气缸同时同步驱动三个滑块伸缩运动,统结构紧凑。

3、接近式间隙曝光工件台系统工作时,能实现自动完成样片与掩模板非接触调平,并使样片与掩模板之间保持要求的曝光间隙r,系统的工作效率高。


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